セミナー4/13 塗布膜乾燥の評価方法と欠陥の防止策
塗布膜乾燥の評価方法と欠陥の防止策
PDFパンフレット(セミナー「塗布膜乾燥の評価方法と欠陥の防止策」)
主 催
S&T出版株式会社
日 時 ・ 場 所
日時：2015年4月13日(月) 13:00～16:30
会場：連合会館 5階 502会議室 （東京都千代田区神田駿河台3-2-11）
→会場へのアクセス
受 講 料 （税込）
43,200円（税込） STbook会員価格 41,000円 ＊資料代を含む
2名様以上でお申込の場合（お1人様：32,400円 STbook会員価格 30,200円）
同一会社・法人からの同時申込に限り、上記価格を適用します。
→複数名同時申込はこちらの用紙（PDF）をご利用ください。
講 師
山村 方人 氏 ／ 九州工業大学 大学院 工学研究院 物質工学研究系 教授
【ご略歴】
平成3年3月 京都大学工学部化学工学科卒業
平成10年3月 博士（工学）京都大学
平成11年および12年夏 米国ミネソタ大学工学部Visiting Scholar
平成25年4月より 九州工業大学大学院工学研究院物質工学研究系教授
【研究内容】
液体薄膜の乾燥、塗布およびその評価
【活動】
化学工学会 材料・界面部会 塗布技術分科会代表
International Society of Coating Science and Technology, Board Member
European Coating Symposium, Scientific Committee
趣 旨
塗布膜から溶媒が蒸発する相転移過程で膜内の状態は均一とは限らず、特に高速乾燥条件下では多彩な不均一構造が発現する。本講座ではいくつかの不均一構造を乾燥欠陥として取り上げ、その発生メカニズムと評価方法を解説すると共に、発生防止へ向けた基本的な考え方を述べる。粒子、溶媒、高分子が混合された多成分系の事例を多く取り上げるが、できるだけ数式は使わず物理的解釈に重点を置いた話題提供を行う。
プログラム詳細
1． 膜厚方向の粒子偏析
1.1 ペクレ数と沈降数
1.2 蒸発/拡散/沈降支配領域
1.3 単分散系
1.4 異種粒子共存系
1.5 偏析抑制の考え方
2． 膜厚方向の高分子偏析
2.1 粒子偏析との類似
2.2 単一溶媒系
2.3 溶媒混合系
2.4 蒸気導入による偏析抑制
2.5 発泡
2.6 発泡条件の予測と乾燥最適化
3． 表面ムラ
3.1 マランゴニ応力
3.2 表面張力の濃度・温度依存性
3.3 単一溶媒系＜br＞ 3.4 溶媒混合系
3.5 表面ムラ抑制の考え方
4． 亀裂
4.1 応力発達
4.2 臨界クラック厚み
4.3 異種粒子混合系
4.4 溶媒混合系
4.5 高分子吸着系
4.6 クラック抑制の考え方
5． 相分離
5.1 相図
5.2 溶媒混合系＜br＞ 5.3 高分子混合系
5.4 相サイズ制御の考え方
5.5 相形成による乾燥促進
6． マランゴニ対流
6.1 マランゴニセル
6.2 マランゴニ数
6.3 吸湿による対流発生
6.4 対流抑制の考え方
