セミナー2/15 ナノインプリントの基礎とナノデバイス・3次元構造の作製・応用技術
ナノインプリントの基礎とナノデバイス・3次元構造の
作製・応用技術
～あっ そうだったんだ ナノインプリント～
PDFパンフレット(セミナー「ナノインプリントの基礎とナノデバイス・3次元構造の作製・応用技術」)
主 催
S&T出版株式会社
日 時 ・ 場 所
日時：2016年2月15日(月) 10:30～16:30
会場：高橋ビルヂング（東宝土地(株)） 会議室 （東京都千代田区神田神保町3-2）
→会場へのアクセス
受 講 料 （税込）
49,800円 Ｅメール案内会員価格 47,300円 ※昼食・資料代を含む
＜1名様分の受講料で2名様まで受講できます＞
※2名様ご参加は同一会社・法人からの同時申込に限ります。
※2名様ご参加は2名様分の参加申込が必要です。ご連絡なく2名様のご参加はできません。
※3名様以上のご参加は、追加1名様あたり10,800円OFFになります。
Ｅメール案内登録をしていただいた方には、Ｅメール案内会員価格を適用いたします。
→複数名同時申込はこちらの用紙（PDF）をご利用ください。
講 師
平井 義彦 氏 ／ 大阪府立大学 大学院工学研究科 電子・数物系専攻 電子物理工学分野 教授
【略歴】
1981年 大阪府立大学 大学院 工学研究科 修士課程 修了(電子工学科)
1981年 松下電器産業 中央研究所 半導体リソグラフィ、シリコン量子素子の研究開発
1996年 大阪府立大学 工学部 機械システム工学科 助教授 マイクロマシン,ナノインプリントの研究
2004年 同大学 大学院工学研究科 電子物理工学分野 教授 ナノインプリント、マイクロ・ナノ加工の研究
現在に至る
1994年 工学博士
2011年 フォトポリマーサイエンスアンドテクノロジー誌 年間最優秀論文賞
2015年 ナノインプリントフロンティアアワード
応用物理学会 ナノインプリント技術研究会 会長
応用物理学会 フェロー
国際ナノインプリント技術会議NNT 国際組織委員
2014、2011、2005国際ナノインプリント技術会議NNT 論文委員長
国際マイクロプロセスナノテクノロジー会議MNC 組織委員
国際電子・イオン・フォトンビームならびにナノテクノロジー会議EIPBN 国際委員
趣 旨
ナノインプリントは、比較的簡単なプロセスでナノ構造が簡単に作製できます。しかし、そのメカニズムは複雑で、その基本を理解しておくことは、欠陥対策や生産性の向上には不可欠です。
本講では、熱ナノインプリント、UVナノインプリントの基本的な物理化学の知識を身につけます。
さらに、リバーサルナノインプリントやハイブリッドナノインプリントなどを含めた、応用プロセスについて学びます。また、ナノインプリントならではの多彩な応用技術について紹介します。これまで気付かなかったナノインプリントの隠れたメカニズムや応用について、系統だてで解説します。
プログラム詳細
1. ナノインプリントの特徴・必要条件、他技術と比べた場合の優位性と得意でない応用
2. ナノインプリントの樹脂レオロジー、UV硬化反応、モールド/樹脂界面のトライボロジー
3. 熱・UVナノインプリントの成形メカニズムと、材料・プロセスの設計最適化
4. 熱・UVナノインプリントにおけるパターン欠陥の要因とその解消
5. 離型メカニズムと離型方法
6. 樹脂の収縮と寸法精度
7. 欠陥回避・高精度加工のための材料、モールド、プロセス技術
8. 2.5次元構造のモールド作製方法
9. リバーサルナノインプリントの原理と3次元構造
10. ハイブリッドナノインプリントの原理と3次元構造
11. ナノインプリントの応用
11-1. ナノ光学素子へのナノインプリント応用
11-2. バイオチップへのナノインプリント応用
11-3. 生体模倣構造へのナノインプリント応用
11-4. バイオチップへのナノインプリント応用
11-5. 有機太陽電池へのナノインプリント応用
11-6. 半導体へのナノインプリント応用
12. 今後の展望と最新動向
![UV硬化プロセスの最適化 [新装版]](/user_data/packages/st/img/item/B002.jpg)
